半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
顶目视频背景
该企业的专业课程生产销售光电器件用高纯氟化氢和六氟化钨,焦化废水氟渗透压不高且材料简化。增加了办理工学院艺效用不增强,氟化物排污隔三差五超标准。大型项目施工人21000万元施工针对性办理配套设施,制定办理意识500吨/天。
废水处理工艺的成分及來源
污水一般产于研发机器设备洁净和烟粉尘洗條:
氟亚铁离子浓硫酸浓度:1500-3500mg/L
含浓盐酸根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等金属质设计
处里工艺设计步奏
面向高浓硫酸浓度结构特征,按照"中合+层级奠定+膜操作"流程:
污水处理方法回收池:类别回收不一样氧浓度污水处理方法
中合反映池:分周期污泥脱水氢钝化钠和氢钝化钙,抑制决定pH至7.5-8.
水解酸化池化学反应池:加药系统PAC和PAM明显增强沉定视觉效果
斜管乳浊液池:高固液分离处理
多媒质筛选器:删去这些细微颗粒肥料
反渗入机系统:深度的脱盐和除氟
废水处理浸提脱水现象过滤平台:离心力脱水现象过滤后废水处理土石方工程专业性处里
一直环境监测方案模式:时时视频监控氟阴阳离子浓硫酸浓度和pH值
结果视觉效果
工作平台自动运行数据库:
漏电氟铁离子人均氨水浓度:2800mg/L
喷水氟铝离子溶液浓度:3.2mg/L(平均水平)
氟洗去率:99.9%以上内容
水造纸废水处理率:符合65%
操作系统自功化状态高,实现目标废污水进行处理直接费用有效降低30%,年再利用氟化钙副设备约400吨。