某半导制作业品牌因晶圆擦拭加工过程引起含氨污废水 ，储水量200吨/天。污废水 中除高锰酸盐指数外还有氟化物和氢化物发生器天价属，加工分值大。立即废气排放规范必须高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废气组成及的来源 晶圆洗掉生产废水（核心来自）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀多种工序生产废水：含轻微铜、镍等高价属，pH值变化大 CMP机磨废液：含硅颗粒肥料及高锰酸盐指数 治理生产技术操作流程 应用"化学反应水解+膜剥离 +折点氯化"搭配组合工艺设计： 预清理 ：加药系统CaCl2除氟，调节pH在7.5-8. 超滤膜平台 ：去掉0.01μm上述粒状物 反渗透装置性精浓 ：将挥发酚浓缩咖啡至1000mg/L综上所述 折点氯化 ：准确设定氯添加量，将挥发酚图片转换为N2 阴阳离子交互 ：安全保障巨资属合格 既定体验 氧化还原电位平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含氧量不超过查测限 水循环率达75% 废水诞生量增多40%